陽極氧化膜的生長速度及性能

　　陽極氧化膜的生長速度及性能是由電解液成分與濃度、電壓、電流密度及氧化時間等因素通過影響膜的生成與化學溶解的動態平衡過程綜合決定的。對實驗溫度進行了檢測，由于加入了草酸，擴展了成膜的溫度范圍。將反應槽置于水槽中，并且用冷水降溫，反應溫度一直控制在17～18℃之間，溫度基本不變，所以本文不進行溫度對成膜影響的討論。